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  • Hendrik Bücker

Starker Anstieg von KI-Erfindungen in Deutschland

DPMA-Analyse: Deutsche Anmelder im Ländervergleich auf Platz 2

Düsseldorf, 22.04.2024 – Industrie und Wissenschaft haben ihre Innovationstätigkeit im Bereich Künstliche Intelligenz (KI) in den letzten Jahren deutlich verstärkt. Diese Beobachtung macht das Deutsche Patent- und Markenamt (DPMA) in einer aktuellen statistischen Analyse. Demnach wurden in Technikklassen mit starkem KI-Bezug im vergangenen Jahr 40 Prozent mehr Patentanmeldungen mit Wirkung für Deutschland veröffentlicht als noch vor fünf Jahren.

Im Ländervergleich bleibt Deutschland jedoch hinter den USA zurück: Fast ein Drittel (32,4 Prozent) aller 2023 veröffentlichten Anmeldungen stammte von Unternehmen oder Forschungseinrichtungen aus den Vereinigten Staaten. Deutschland kommt auf einen Anteil von 17,1 Prozent und Japan auf 12,4 Prozent. „Gemessen an Patentanmeldungen nehmen deutsche Unternehmen auf ihrem Heimatmarkt eine vergleichsweise gute Position ein“, sagte DPMA-Präsidentin Eva Schewior im März 2024 im Rahmen des DPMAnutzerforums 2024. Den stärksten Zuwachs konnte China verbuchen: Hier war die Zahl an veröffentlichten Anmeldungen 2023 bereits 15 Prozent höher als noch 2022. Für deutsche Anmeldungen betrug der Zuwachs im gleichen Zeitraum 5,2 Prozent.

Für KI existieren keine spezifischen Patentklassen. Daher werteten die Experten des DPMA die Klassen aus den Technologiefeldern aus, in denen KI zum Einsatz kommt, darunter etwa Computer-, Medizin- und Fahrzeugtechnik, Robotik sowie Sprach- und Bildanalyse. In die Untersuchung flossen Patentanmeldungen mit Wirkung für Deutschland ein, die beim DPMA oder beim Europäischen Patentamt (EPA) eingereicht wurden. Doppelanmeldungen bei beiden Behörden wurden herausgerechnet.

„Der Bereich KI entwickelt sich weltweit in einem rasanten Tempo. Damit Deutschland auch weiterhin im internationalen Wettbewerb besteht, sollte noch mehr in Innovationen und in ihren Schutz investiert werden“, sagt Hendrik Bücker, Patentanwalt und Partner von Cohausz & Florack.

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